ASML, de stichting voor Fundamenteel Onderzoek der Materie (FOM), UvA, VU en NWO hebben plannen om een Instituut voor Nanolithografie (INL) op te richten. Het INL zal fundamenteel en toegepast onderzoek uitvoeren voor de halfgeleiderindustrie.
Het onderzoeksprogramma van het INL zal zich in eerste instantie richten op extreem-ultravioletlithografie (EUV), een technologie voor het produceren van computerchips. De bedoeling is dat het instituut bijdragen zal leveren aan de technologie voor het maken van geheugenchips en processors in pc’s, smartphones en tablets.
Het nieuwe instituut zal nog dit jaar van start gaan onder leiding van het FOM-instituut AMOLF. Tegen 2015 zal het een onafhankelijk instituut geworden zijn, dat wordt bestuurd door FOM in samenwerking met de UvA en de VU, en dat ongeveer honderd wetenschappers en ondersteunende werknemers in dienst zal hebben, waaronder hoogleraren en postdocs.
Impuls
‘Met dit instituut geven we een nieuwe impuls aan het topsectorenbeleid in Nederland, dat gericht is op de impact van wetenschap op onze technologiebasis en economie,’ zegt Wim van Saarloos, directeur van FOM. ‘De brainstormsessies die wetenschappers organiseerden in voorbereiding van de onderzoeksvoorstellen voor dit instituut hebben al verschillende ideeën opgeleverd die tot nieuwe technologische mogelijkheden kunnen leiden.’
De stichting van het nieuwe privaat-publieke instituut is volgens minister van Economische Zaken Henk Kamp belangrijk om de concurrentie aan te kunnen. ‘Met dit instituut kan ASML de groeiende competitie aan en zijn wereldwijde marktpositie verder versterken.’
ASML, waar oud-FNWI-decaan Bart Noordam vicepresident is, zal meer dan een derde van het jaarlijkse budget van het INL bijdragen en investeert hiermee dertig miljoen euro over een periode van tien jaar. FOM en NWO zullen 25 miljoen euro bijdragen, verdeeld over tien jaar. UvA en VU dragen gezamenlijk 12,5 miljoen euro bij. De gemeente Amsterdam heeft vijf miljoen euro toegezegd als opstartfinanciering. Alles bij elkaar gaat het om een bedrag van 100 miljoen euro voor tien jaar.
Het INL zal worden gevestigd op Science Park.
Het onderzoeksprogramma van het INL zal zich in eerste instantie richten op extreem-ultravioletlithografie (EUV), een technologie voor het produceren van computerchips. De bedoeling is dat het instituut bijdragen zal leveren aan de technologie voor het maken van geheugenchips en processors in pc’s, smartphones en tablets.
Het nieuwe instituut zal nog dit jaar van start gaan onder leiding van het FOM-instituut AMOLF. Tegen 2015 zal het een onafhankelijk instituut geworden zijn, dat wordt bestuurd door FOM in samenwerking met de UvA en de VU, en dat ongeveer honderd wetenschappers en ondersteunende werknemers in dienst zal hebben, waaronder hoogleraren en postdocs.
Impuls
‘Met dit instituut geven we een nieuwe impuls aan het topsectorenbeleid in Nederland, dat gericht is op de impact van wetenschap op onze technologiebasis en economie,’ zegt Wim van Saarloos, directeur van FOM. ‘De brainstormsessies die wetenschappers organiseerden in voorbereiding van de onderzoeksvoorstellen voor dit instituut hebben al verschillende ideeën opgeleverd die tot nieuwe technologische mogelijkheden kunnen leiden.’
De stichting van het nieuwe privaat-publieke instituut is volgens minister van Economische Zaken Henk Kamp belangrijk om de concurrentie aan te kunnen. ‘Met dit instituut kan ASML de groeiende competitie aan en zijn wereldwijde marktpositie verder versterken.’
ASML, waar oud-FNWI-decaan Bart Noordam vicepresident is, zal meer dan een derde van het jaarlijkse budget van het INL bijdragen en investeert hiermee dertig miljoen euro over een periode van tien jaar. FOM en NWO zullen 25 miljoen euro bijdragen, verdeeld over tien jaar. UvA en VU dragen gezamenlijk 12,5 miljoen euro bij. De gemeente Amsterdam heeft vijf miljoen euro toegezegd als opstartfinanciering. Alles bij elkaar gaat het om een bedrag van 100 miljoen euro voor tien jaar.
Het INL zal worden gevestigd op Science Park.
